第543章 申请专利 首页

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第543章 申请专利(3/3)

明技术细节,也就是许青舟加入的那些黑科技,前驱体上,传统的Sn(CH)改用Sn(NEt)、H等离子体增强反应、量子级界面工程NbSn薄膜表面外延生长拓扑绝缘体BiSe.最后到YO纳米掺杂和量子点精准掺杂。

至于用途,核聚变反应堆磁体系统,高能粒子加速器,量子计算与低温电子器件,医疗成像设备.怎么说呢,他的这个产品,直接是五边形战士。

另外还需要附上工艺流程图、薄膜截面TEM图、Jc-磁场曲线图这些东西。

许青舟花了四天把专利材料申请好,而后直接找了间专利注册的事务所,打算先锁定优先权日。

宋瑶其实也能做,但这东西比较麻烦,权利要求书,USPTO检查文件格式、附图清晰度等等都有相应的要求。

4月14日,许青舟见到了专利代理人莉丝·安德森,莫顿教授推荐的人选。

一位非常热心的老太太,和莫顿教授的性格完全相反。

这类专利的申请,审查时常在6个月,1年,甚至于2年都很正常,但超导薄膜领域稍好,不似传统行业,拥有大量注水专利,需要耗费大量审查时间。

可超导材料属于复杂技术,仍然需要经过严格的审查,为了缩短时间,许青舟忍痛支付了4000美元的加急费。

事务所的效率很高,4月16日在确立优先权日。

接下来,审查员评估新颖性、创造性,发出审查意见(OfficeAction),通常需1-3轮答复。

许青舟也准备给通用电气的扎卡里亚打个电话,同步一下进度,就当给这位豪赌者一点惊喜。

当然,还有另外一层意思。

兄弟,该准备钱了。

(本章完)


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