第488章 看吧,是你勾引我 首页

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第488章 看吧,是你勾引我(2/3)

实验过程中ALD设备的真空泄漏,导致4天的样本氧化损坏。

于是,许青舟和卡森又当起维修工,更换Viton密封圈。

卡森指着电脑:“许教授,上周的数据处理好了。”

“辛苦。”

许青舟点头,查看实验数据。

卡森负责数据清洗,去除异常值,或者采用插值法填补缺失值,孙思敏和马尔斯就负责些简单工作,对数据进行统一化,分类编码。

马尔斯忍不住说道:“教授,我看院报,詹姆士团队已经完成了第三轮实验,他们已经通过原子层沉积(ALD)设计,预计成品实现界面缺陷密度降低90%,量子比特的弛豫时间提升至500微秒,退相位时间突破200微秒。”

“哦,挺厉害。”许青舟微微点头。

“就没了?”马尔斯挠头,看起来教授一点都不慌啊。

许青舟想了想,点头,沉声说道:“能和这样的团队做对手,这完全证明我们也很厉害。”

“.”

孙思敏和马尔斯相视一眼,这样一想,貌似他们这个团队真的挺厉害。

“这份公告,是给项目管理办公室,投资方看的,当然,同样是给我们看的。”

卡森转着办公椅,给自己倒了杯水,又回到位置上,很有经验地继续说道:“搞科研就像吃巧克力一样,你永远不知道下一块是什么味道。”

不少课题组都埋头在这个前沿领域,看到这个消息自然会有压力,有的奋起直追,但其中也不乏直接放弃,甚至把自己实验数据打包送给领先课题组的,换取一个挂名的机会。

这就叫及时制止。

免得辛辛苦苦一年,发现自己的课题早就被其他人做出来了。

“欧克,为了表示对强大对手的尊重,你们俩应该看书了。”许青舟敲敲桌子说。

孙思敏和马尔斯点点头,低头继续看笔记。

这头,许青舟也把目光放到电脑屏幕上,看A08号样品的数据。

这一个月时间,他们基本都在做先导试验,验证石墨烯基底能否承受ALD沉积温度,测试金属的ALD生长可行性。

非常基础的工作,就好比建大厦前,选择和测试不同的砖块,钢筋和水泥。

A07号样品的问题,电化学剥离(FeCl)时薄膜撕裂或褶皱,导致后续ALD沉积基底不平整。

经过试验,他们最终采用双层PMMA保护,先旋涂300nmPMMA,再覆盖50nmP

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